Ultra High Vacuum Sputtering System: Inovasi dalam Desain dan Teknologi

Menghadirkan Keindahan dan Keunikan dalam Sistem Sputtering

Sistem Sputtering Ultra High Vacuum ini mengubah model tradisional yang ada. Dengan mempertimbangkan kebutuhan pengguna dan lingkungan, sistem ini mengintegrasikan banyak faktor desain industri. Sistem ini menggunakan mode kombinasi modular yang memudahkan instalasi, transportasi, dan perawatan. Desain bentuk keseluruhan yang rapi dan indah, dengan perlakuan permukaan yang halus, dan masker akrilik transparan dengan nuansa abu-abu, memberikan kesan sederhana, modern, dan indah. Aspek ergonomis dan interaksi tercermin dalam desain layar kontrol.

Material utama dari bodi sistem ini adalah plat dingin berkualitas tinggi, dengan proses pembentukan lembaran logam dan teknologi semprot ramah lingkungan. Kerangka internal menggunakan aluminium, sedangkan masker menggunakan bahan akrilik. Desain bodi menggunakan proses sablon layar.

Spesifikasi teknis dari sistem ini adalah Lebar 2800mm x Kedalaman 1200mm x Tinggi 1500mm. Sistem ini dapat ditempatkan di laboratorium penelitian, pusat pengembangan teknologi, atau fasilitas produksi.

Sistem Sputtering Ultra High Vacuum dapat mengendapkan lapisan tipis logam dan dielektrik pada substrat hingga 300mm. Sumber sputtering magnetron menggunakan sumber daya RF, DC, atau pulsed DC, dapat beroperasi dalam mode tunggal atau mode co-deposition untuk menghasilkan film yang memenuhi berbagai persyaratan.

Proyek ini dimulai pada Januari 2020 di Huai'an, Provinsi Jiangsu, China, dan selesai pada November 2020 di Huai'an, Provinsi Jiangsu, China. Proyek ini merupakan hasil kerjasama antara universitas dan perusahaan, dengan latar belakang penelitian ilmiah dan kondisi teknis yang diperbarui dan ditingkatkan.

Desain ini memenangkan Penghargaan Perunggu dalam A' Manufacturing and Processing Machinery Design Award pada tahun 2021. Penghargaan ini diberikan kepada desain yang kreatif dan inovatif, yang menggabungkan praktik terbaik dalam seni, ilmu pengetahuan, desain, dan teknologi. Desain ini menunjukkan keterampilan teknis dan kreatif yang kuat serta memberikan kontribusi dalam meningkatkan kualitas hidup, menjadikan dunia ini menjadi tempat yang lebih baik.

Sistem ini dilengkapi dengan beberapa ruang UHV: ruang evaporasi, ruang sputtering, ruang pemrosesan, ruang penguncian beban, dan sumber evaporasi sinar elektron. Sistem ini sepenuhnya dikendalikan secara otomatis, mendukung mode semi-otomatis, mode manual, dan pemeliharaan jarak jauh. Sistem Sputter UHV ini memiliki desain yang rapi dan intuitif, perlakuan permukaan yang cermat, dan tekstur yang halus dan cerah, memberikan kesan lembut, sederhana, modern, dan indah. Desain ergonomis menekankan pada detail-detailnya.

Dengan inovasi dalam desain dan teknologi, Ultra High Vacuum Sputtering System ini membawa keindahan dan keunikan dalam sistem sputtering. Desain terintegrasi yang indah, kontrol yang ergonomis, dan interaksi manusia-komputer yang inovatif menjadikan sistem ini sebagai pilihan yang sempurna untuk laboratorium penelitian dan fasilitas produksi yang mengutamakan kualitas dan keunikan.